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光學輪廓儀主要功能

2017-11-21

  共聚焦 (Confocal Profiling)
 
  共聚焦輪廓儀可以測量較光滑或非常粗糙的表麵高度。借助消除虛焦部分光線的共焦成像係統,可提供高對比度的圖像。籍由表麵的垂直掃描,物鏡的焦點掃過表麵上的每一個點,以此找出每個像素位置的對應高度(即共聚焦圖像)。
 
  共聚焦輪廓儀可以由其光學組件實現超高的水平解析度,空間采樣可以減小到0.10μm,這是一些重要尺寸測量的理想選擇。高數值孔徑NA(0.95)和放大倍率(150X和200X)的物鏡可測量斜率超過70°的光滑表麵。neox具有極高的光效,專有的共聚焦算法可提供納米級的垂直方向重複性。超長工作距離(SLWD)可測量高寬比較大、形狀較陡的樣品。
 
  幹涉(Interferometry)
 
  PSI 模式 (PSI Profiling)
 
  相位差幹涉儀 (Phase Shift Interferometers)可以亞納米級的分辨率測量非常光滑與和連續的表麵高度。必須準確對焦在樣品上,並進行多步垂直掃描,步長是波長的的分數。PSI算法借助適當的程序將表麵相位圖轉換為樣品高度分布圖。
 
  PSI模式可在所有的數值孔徑(NA)下提供亞納米級的垂直分辨率。放大倍率較小時(2.5X)可以測量較大視場範圍,並具有同樣的垂直分辨率。但是光波相幹長度使其測量範圍限製在微米級。PSI算法使neox 得到納米尺度的形態特征,並以亞納米尺度對超平滑的表麵紋理參數作出評估。
 
  VSI 模式 (VSI Profiling)
 
  白光幹涉儀 (White-Light Vertical Scanning Interferometers)可用於測量光滑表麵或適度粗糙表麵的高度。當樣品表麵各個點處於*焦點位置時可得到zui大幹涉條紋對比度。多步垂直掃描樣品,表麵上的每一個點會通過對焦點,通過檢測幹涉條紋峰值得到各像素位置的高度。
 
  VSI模式可在所有的數值孔徑(NA)下提供納米級垂直分辨率。VSI算法使neox在各放大倍率下得到具有相同垂直分辨率的形態特征。其測量範圍在理論上是無限的,盡管在實踐中其將受限於物鏡實際工作距離。掃描速度和數據采集速率可以非常快,當然這會導致一定程度垂直分辨率損失。※薄膜測量 (Thin Film)
 
  光譜反射法是薄膜測量的方法之一,因為它準確、無損、迅速且無需製備樣品。測量時,白光照射到樣品表麵,並將在膜層中的不同界麵反射,並發生幹涉和疊加效應。結果,反射光強度將顯示出波長變化,這種變化取決於薄膜結構不同層麵的厚度和折射率。軟件將測得的真實光譜同模擬光譜進行比較擬合,並不斷優化厚度值,直到實現*匹配。

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